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技術文章

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  • 20248-23
    真空壓力氣氛控制方案

    科研實驗、半導體制造、航空航天真空壓力氣氛控制方案針對用戶提出的低氣壓試驗箱中的真空度精密控制系統,以及1333Pa-133Pa/133Pa-0.133Pa的寬域真空度控制范圍,本文基于動態平街法提出了切實可行的決方案。決方案采用了上游控制和下游控制兩路獨立高精度的PID程序控制回路,基于不同量程的高精度電容真空計,分別調節進氣電動針閥和排氣電動球閥,可實現各種低氣壓環境試驗箱中高精度真空壓力控制。此解決方案已在多個真空領域得到應用,并可以達到+1%的高精度控制。真空壓力氣氛...

  • 20248-20
    小型真空泵是現代工業中的重要設備

    小型真空泵是現代工業中的重要設備,用于產生、改善和維持真空環境,廣泛應用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業。了解其工作原理、類型、選購要點及應用范圍,對于選擇和使用該設備具有重要的參考價值。1.真空泵的定義和用途-概念定義:通俗來講,真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產生和維持真空的裝置。-主要用途:這類泵被廣泛用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業,其主要工作目的是排出氣體,獲得真空環境。2.工作原理及分類-工作原理:根據一定的工作原理,真空泵可以分為機械、物理、化學方...

  • 20248-12
    氣體質量流量計的安裝注意事項

    氣體質量流量計是用來測量氣體流量的儀器,其準確性和穩定性對于工業過程控制和實驗數據分析非常重要。正確安裝氣體質量流量計是確保其性能和精度的關鍵步驟。以下是一些關于氣體質量流量計安裝的注意事項:1.選擇合適的安裝位置:-選擇震動最小、溫度穩定且便于檢查和維護的位置安裝流量計。-避免將流量計安裝在可能導致流程中斷或維護困難的地方。2.遵守安裝方向:-根據制造商的指導手冊,確保流量計按照正確的方向安裝。-有些流量計對安裝角度有特定要求,必須嚴格遵守以防止測量誤差。3.避免管道應力:...

  • 20248-9
    等離子清洗主要是清洗什么的?

    等離子清洗機,顧名思義,是通過等離子體來實現清洗的設備。那什么是等離子體呢。等離子體是一種高能帶電的氣體,可以通過加熱氣體或者施加高壓電場等方式產生。因為等離子具有高能量和高活性,可以有效擊穿器件表面的氧化物和有機物,使其腐蝕分解成氣體或者被吸附走。以此來達到精密清洗的目的。等離子清洗機又分為真空等離子清洗機和大氣等離子清洗機。大氣等離子清洗機適用于體積較大的金屬、塑料、陶瓷等。清洗速度較快,但其清洗效果和清洗范圍受到氣流噴射壓力和角度的限制。占地較大設備較為昂貴。真空等離子...

  • 20247-26
    還不了解多功能手動探針臺的優勢特點?進來看

    多功能手動探針臺是一種用于半導體芯片電參數測試的精密設備,能夠為集成電路的電壓、電流、電阻以及電容電壓特性曲線等參數檢測提供準確的測試平臺。下面詳細分析多功能手動探針臺的優勢特點:1、精準定位(1)微調裝置:采用微調裝置,可以實現精細的定位控制,確保測試過程中探針與芯片的準確對接。(2)傳感器技術:結合傳感器技術,能夠實現亞微米級的定位精度,提高測試數據的準確度。2、操作靈活性(1)手動控制:相比自動探針臺,該設備賦予操作者更多的控制自由度,便于根據實際需求進行個性化操作。(...

  • 20247-22
    使用多功能手動探針臺前您所需要了解的相關知識點分享

    多功能手動探針臺是一種用于半導體芯片電參數測試的精密設備,能夠吸附多種規格的芯片,并提供多個可調測試針以及探針座。配合相應的測量儀器,它能夠完成集成電路的電壓、電流、電阻以及電容電壓特性曲線等參數的檢測。下面將深入探討多功能手動探針臺的相關知識點:1、工作原理(1)基礎原理:其核心功能是實現對半導體芯片的電參數測試。通過精準定位的探針與芯片上的焊點接觸,可以測量出芯片在各種工作狀態下的電學性能。(2)電子隧道效應:在納米級別的測量中,它可能會應用到掃描隧道顯微鏡技術,該技術基...

  • 20247-17
    如何延長真空探針臺的使用壽命

    真空探針臺是一種用于半導體器件測試的重要設備,其養護方式對于保證設備性能和延長使用壽命至關重要。以下是一些關于真空探針臺養護方式的建議:1.清潔:真空探針臺需要定期進行清潔,以去除灰塵和可能的污染物。清潔時,應使用溫和的清潔劑和軟布,避免使用可能刮傷設備的硬物。同時,清潔后應確保設備干燥,避免水分導致的銹蝕或短路。2.檢查密封性:真空探針臺的密封性對于保持真空環境至關重要。應定期檢查設備的密封圈和閥門,確保它們沒有磨損或損壞。如果發現密封性下降,應及時更換密封件。3.檢查真空...

  • 20247-9
    蒸鍍儀和濺射儀靶材選擇

    關于小型濺射儀小型蒸鍍產品知識要點直流磁控濺射儀濺射方式是調動靶材內磁場,使金屬離子轟擊到樣品表面的鍍膜方式。目前只能支持金屬靶材。已經測試過的靶材有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁、以及部分合金(鎳鐵合金)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求鋁:鍍鋁推薦使用高真空分子泵。鉻、鎳:靶材厚度0.5mm左右。小型蒸鍍儀是通過高溫蒸發的方式鍍膜。支持蒸鍍金屬和有機物。目前已測試的金屬有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁,有機物(石蠟)。蒸鍍儀增加膜厚監測需要用到帶有屏蔽溫度的陶瓷坩堝(原因是高溫會影響膜厚儀的...

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